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紫外光刻機是制造集成電路中重要的設備，特別是現(xiàn)在市面上大部分的芯片都是屬于電子芯片，當電子芯片的工藝小于一定的尺寸的時候，就必須依靠光刻機在制作芯片，也就是說如果沒有光刻機就沒有辦法制造出頂級的芯片，比如市面上7nm芯片、5nm芯片等都不可...

紫外光刻機新一代紫外光源：172nm，具有同類產品良好的輸出強度，3%的可用孔徑，弧光燈使用壽命更長。暴露高達30000次，瞬間啟動，無需超凈室，內置凈化系統(tǒng)可使系統(tǒng)在大氣環(huán)境中工作，無需主動冷卻和外部冷卻，無有毒氣體和汞等物質。高光能轉換...

光刻是使用曝光將設計的掩模圖案轉移到基板的過程，URE-2000/35型紫外光刻機是專為實驗室研發(fā)和小批量生產而設計的高分辨率光刻系統(tǒng)。光刻機提供良好的基板適應性，可夾持的標準尺寸基板最大直徑為150mm。該設備提供多種曝光方式，包括真空、...

等離子清洗機(plasmacleaner)也叫等離子表面處理儀，是一種新的技術，利用等離子體來達到常規(guī)清洗方法無法達到的效果。等離子體是物質的一種狀態(tài)，也叫做物質的第四態(tài)。對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態(tài)。等離子體的“活性”組分...

雙通道超高頻鎖相放大器信號頻率響應范圍擴展至50MHz，并具有兩個鎖相單元。它可以代替測量系統(tǒng)中的兩個常規(guī)鎖相放大器。128位信號處理能力使鎖相放大器達到理想的性能。它不僅可以支持各種現(xiàn)有應用程序，還可以促進許多新應用程序的開發(fā)。同時集成頻...

薄膜的厚度是否均勻是檢驗薄膜性能的依據(jù)。顯然，如果一批單層薄膜的厚度不均勻，不僅會影響薄膜的抗拉強度和阻隔性能，還會影響薄膜的后續(xù)加工。此外，合理控制產品厚度，不僅可以提高產品質量，還可以降低材料消耗，提高生產效率。因此，薄膜厚度是否均勻，...